2023-32128 – Alternant.e (1an) Etude et amelioration de selectivite d’un empilement tri-couches en gravure Plasma

Regular/Temporary : Temporary
Position description :
Etude et amélioration d’une triple sélectivité d’un empilement tri-couches en gravure plasma

Mission :
En microélectronique, l’opération de gravure de matériaux est incontournable pour la structuration de couches de matériaux différents. Afin d’y parvenir, le procédé plasma utilisé nécessite d’être sélectif vis-à-vis de la couche de protection déposée (Résine Photosensible) afin de transférer au mieux le motif défini par le masque dans le substrat. En parallèle, lors de la présence d’empilement de couche de matériaux différents, la gravure doit être à la fois sélective vis-à-vis du masque mais également vis-à-vis des sous-couches. Le véhicule test utilisé très « challenging » présentera un empilement de trois matériaux sous la résine du masque : le Silicium du substrat, du SiPOS puis du SiO2 sous la résine du masque. L’Objectif principal sera d’accroitre la sélectivité entre le SiO2 et la résine du masque ainsi que les sélectivités SiO2 : SiPOS, et SiPOS : Silicium. Pour y parvenir, une multitude de mélange gazeux pourra être évaluée couplé à un paramétrage machine optimisé. Le resultat positif de ce développement et une meilleur compréhension de ces mécanismes de sélectivité pourront être appliqués ou transposés à différents produits stratégiques pour STMicroelectronics Tours.
Mots clés : Silicium, SiPOS, Oxyde de Silicium, Résine photosensible, masque, sélectivité, gravure plasma.

Agenda :
T1 : Bibliographie / Prise en main des Equipements Gravure, stripping et Métrologie, caractérisation / Prise en main du sujet / Mise en place du plan d’action / Préparation wafers
T2 : Lancement 1ere campagne de manipulation et métrologie/analyse associés Þ état des lieux des tendances
T3 : Lancement campagne de finition/optimisation recettes process en vue de l’augmentation des sélectivités triples
T4 : Conclusion, définition perspectives, rédaction rapports ST et Ecole, présentations interne ST et Ecole.

Materiaux, Plasma, Anglais.
Aisance à la redaction.
Adaptation.
Travail en équipe.
Education level required : 5 – Master degree
Language / Level :
French : 3- Advanced
Language / Level :
English : 1- Basic
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